光學薄膜沉積技術

光學薄膜沉積技術是一種用于制備光學薄膜的關鍵工藝，其主要目的是在光學器件、光學元件和光學系統(tǒng)中實現(xiàn)特定的光學性能。這種技術通過在基板表面上沉積非常薄的光學材料來改變光的傳播和特性，以滿足特定的光學需求。光學薄膜沉積技術通常包括物理氣相沉積（PVD）和化學氣相沉積（CVD）兩大類，這些技術在制備光學薄膜時各有優(yōu)劣，適用于不同的應用領域和需求。

熱蒸發(fā)原理圖（圖源網絡，侵刪）

1. 物理氣相沉積（PVD）

物理氣相沉積是一種利用機械、機電或熱力學過程將材料從源釋放并沉積在基材上的技術。這種方法下，固態(tài)材料在真空環(huán)境中蒸發(fā)并沉積在基材表面，形成純材料或合金成分的涂層。物理氣相沉積（PVD）最常見的兩種技術是蒸發(fā)和濺射。

蒸發(fā)：蒸發(fā)鍍膜是通過加熱材料，使其在真空環(huán)境中轉變?yōu)闅鈶B(tài)，然后沉積在基材表面形成薄膜。這種方法適用于制備純凈、高性能的涂層，常用于光學鏡片、透鏡和反射鏡的制備。

濺射：濺射鍍膜是利用高能離子轟擊靶材表面，使其釋放出原子或離子，然后在基材表面沉積，形成薄膜。這種方法具有較高的沉積速率和較好的控制性能，常用于制備光學濾光片、反射鏡和光學涂層。

化學氣相沉積原理圖（圖源網絡，侵刪）

2. 化學氣相沉積（CVD）

化學氣相沉積通常稱為 CVD，是一種用于生產高質量、高性能固體涂層或聚合物薄膜的技術。盡管有多種特定的 CVD 工藝，但它們的共同點是利用熱或等離子體驅動的氣態(tài)化學前體的化學反應，在基板表面上產生致密的薄膜。

熱CVD：在熱CVD中，加熱襯底并將前體反應氣體引入沉積室，反應氣體可以直接吸收到基板表面，也可以在氣相中形成中間反應物，然后沉積到基板上。這種方法適用于制備光學鍍膜、光學波導和光學納米結構。

等離子體增強CVD（PECVD）：PECVD是在等離子體環(huán)境中進行的一種CVD技術，通過激發(fā)氣體分子形成等離子體，使反應活性增強，從而在較低溫度下進行沉積。這種方法常用于制備光學光纖、光學波導和光學傳感器。

以上就是光學薄膜沉積技術的主要內容。這些技術的發(fā)展和應用為光學器件、光學系統(tǒng)和光學元件的制備提供了關鍵的支持，為現(xiàn)代光學科學和工程領域的發(fā)展做出了重要貢獻。